pvd镀膜工艺流程介绍
PVD(Physical Vapor Deposition)即物理气相沉积,是一种通过物理方法在基材表面沉积薄膜的电镀工艺。PVD镀膜工艺流程通常包括以下步骤:
一、前处理
清洗工件:在进行PVD镀膜前,需要对工件进行彻底的清洗,以去除表面的杂质、油脂、氧化物等有害物质,确保工件表面平整干净。清洗时,可以接通直流电源,利用氩气进行辉光放电,产生氩离子轰击工件表面,使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出。
预处理:清洗后的工件可能还需要经过进一步的预处理,如机械打磨、化学腐蚀、激光处理等,以提高电镀膜的附着力和均匀度。
二、镀膜准备
蒸发源装填:在PVD镀膜过程中,需要使用蒸发源来提供材料原子。蒸发源装填是将材料蒸发源放置在特定的位置,以便在镀膜过程中通过加热使其蒸发。
抽2024欧洲杯买球网:将2024欧洲杯买球网室内的残余气体抽走,以创造镀膜所需的2024欧洲杯买球网环境条件。
加热烘烤:炉体和工件同时加热,加速残余气体的释放,进一步提高2024欧洲杯买球网度。
压升率测试:测试炉体的漏气率和放气率,确保2024欧洲杯买球网环境条件满足镀膜标准。
三、镀膜过程
镀料的气化:通入交流电后,使镀料蒸发气化。
镀料离子的迁移:气化后的原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场的作用,高速冲向工件。
镀料原子、分子或离子在基体上沉积:当工件表面上的蒸发料离子数量超过溅失离子的数量时,这些离子将逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。如果是镀离子镀,蒸发料粒子电离后具有高能量,高速轰击工件时,不仅沉积速度快,而且能够穿透工件表面,形成一种注入基体很深的扩散层。
四、后处理
冷却出炉:镀膜完成后,需要冷却工件以避免氧化变色。冷却过程中,可以充入氮气或氦气等冷却气体,以提高降温速度。
抛光与清洗:对镀膜后的工件进行抛光和清洗,以去除表面污染物,提高薄膜质量。
其他后处理:根据具体需求,可能还需要进行其他后处理步骤,如AFP处理等,以保护薄膜不受外界环境的影响。
PVD镀膜工艺具有镀层纯度高、附着力强、环保等优点,广泛应用于电子、光学、钢铁、汽车等领域。同时,该工艺也具有一定的技术特点,如可以在金属表面镀覆高硬度、高耐磨性的金属陶瓷装饰镀层等。
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