设备采用电子束蒸发技术，电子从阴极灯丝发射，聚焦成一定的束流，经过阴极与坩埚之间的电位加速，使镀料熔化蒸发，具有能量密度高的特点，可使熔点高达3000摄氏度以上的镀料实现蒸发。膜层纯度高，热效率高。
设备配备电子束蒸发源、离子源、膜厚监控系统、膜厚修正结构、稳定的伞状工件旋转系统；通过离子源辅助镀膜，增加膜层致密性，稳定折射率，避免波长受潮偏移现象；通过全自动膜厚实时监测系统可保证工艺的重复性及稳定性；配备了自熔料功能，降低对操作工的技能依赖。
设备适用于各种氧化物及金属镀料；可镀制多层精密光学膜，如AR膜、长波通、短波通、增亮膜、AS/AF膜、IRCUT、彩色膜系、渐变膜系等；已广泛应用于AR眼镜片、光学镜头、摄像头、光学镜片、滤光片、半导体行业等。
